特許
J-GLOBAL ID:200903071722479165

研磨液組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-205384
公開番号(公開出願番号):特開2000-034470
出願日: 1998年07月21日
公開日(公表日): 2000年02月02日
要約:
【要約】【課題】表面粗さを低減させ得る研磨液組成物、研磨速度を向上させ、被研磨物の表面にスクラッチやピット等の欠陥を生じさせることなく、表面粗さを低くし得る被研磨基板の研磨方法、及びスクラッチやピットの発生を防止しうる精密部品用基板の製造方法を提供すること。【解決手段】タングステン酸及びタングステン酸塩からなる群より選ばれた少なくとも1種と、研磨材と、水とを含有してなる研磨液組成物、前記研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する被研磨基板の研磨方法、並びに前記研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する工程を有する精密部品用基板の製造方法。
請求項(抜粋):
タングステン酸及びタングステン酸塩からなる群より選ばれた少なくとも1種と、研磨材と、水とを含有してなる研磨液組成物。
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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