特許
J-GLOBAL ID：200903071730133375
荷電粒子ビーム露光の方法と装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-060164
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267135
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 ブランキングアパーチャアレイ(BAA)を用いた荷電粒子ビーム露光方法に関し、ブランキングアパーチャアレイ方式のような、複数の荷電粒子ビームを独立にオン/オフ制御して対象面上にパターンを露光する露光技術において、パターンデータを実用レベルで作成することのできる技術を提供する。【構成】 m行×n列のビット行列を単位パターンデータとし、複数個の単位パターンデータを並列に準備し、単位パターンデータ毎に、走査方向に対してほぼ垂直に並んだn個の荷電粒子ビーム開閉手段に行単位でビット情報を供給し、n個の荷電粒子ビームを各々独立にオン/オフ制御して対象面上に照射し、対象面を列方向に走査することによって2次元パターンを露光する方法。
請求項（抜粋）：
m行×n列のビット行列を単位パターンデータとし、複数個の単位パターンデータを並列に準備し、単位パターンデータ毎に、走査方向に対してほぼ垂直に並んだn個の荷電粒子ビーム開閉手段に行単位でビット情報を供給し、n個の荷電粒子ビームを各々独立にオン/オフ制御して対象面上に照射し、対象面を列方向に走査することによって2次元パターンを露光する方法であって、複数個のパターンをそれぞれnビットより広いビット幅を有する2次元ビットマップとして記憶するパターンメモリからnビット幅の所望パターンを行方向ビット位置を選択して読み出し、nビットの幅とmビットの長さを有する単位パターンデータを作成する工程と、前記単位パターンデータを順次前記n個の荷電粒子ビーム開閉手段に供給し、単位パターンデータ毎の露光を順次行なう工程とを含む荷電粒子ビーム露光方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 341 W
