特許
J-GLOBAL ID：200903071730985495
半導体製造装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
,
,
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-022358
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124899
出願日： 1991年02月15日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：
【要約】【目的】半導体製造装置に関し、より詳しくは、CVD法によりウエハ上に膜形成を行うための、連続式の自動化された半導体製造装置に関し、ウエハの温度を所定の温度に保持したままでウエハの移動が行え、かつウエハ個々の製造管理や、異なる種類の多層膜の形成が可能な半導体製造装置を提供することを目的とする。【構成】ウエハ保持具13と、ウエハ保持具13のウエハ載置面が一平面上、円周方向に回転するようにウエハ保持具13を保持する回転軸21と、ウエハ保持具13のウエハ載置面と対向するように、かつウエハ保持具13と分離して設けられたガス分散具12とを有し、ウエハ保持具13に備えられたヒータと電気的に接続された第1の対の電極34が前記回転軸21に設けられ、電源と接続された第2の対の電極35が回転軸21の回転が妨げられないように対応する第1の対の電極34と接触されていることを含み構成する。
請求項（抜粋）：
ウェハ載置面を具備するウエハ保持具と、前記ウエハ載置面が一平面上、円周方向に回転するように該ウエハ保持具を保持する回転軸と、前記ウエハ保持具のウエハ載置面と対向するように、かつ該ウエハ保持具と分離して設けられたガス分散具とを有し、前記ウエハ保持具がヒータを具備し、該ヒータと電気的に接続された第1の対の電極が前記回転軸に設けられ、かつ電源と接続された第2の対の電極が前記回転軸の回転が妨げられないように前記第1の対の電極と接触された状態で設けられていることを特徴とする半導体製造装置。
IPC (6件)：
H01L 21/205
, C23C 14/56
, C30B 25/12
, C30B 25/14
, H01L 21/31
, H01L 21/68
