シロキサン化合物含有ガスの精製方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-193350
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013078
出願日： 2001年06月26日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】シロキサン化合物含有ガス中のシロキサン化合物を安価に効率よく除去して精製ガスを得ることが可能な、シロキサン化合物含有ガスの精製方法を提供する。【解決手段】シロキサン化合物含有ガスをガス精製装置に導入し、前記ガス中に含まれるシロキサン化合物を除去して精製ガスを得るシロキサン化合物含有ガスの精製方法である。前記ガス精製装置に導入する前の未処理のガスおよび/または導入した後の処理後のガスに含まれる前記シロキサン化合物の濃度をオンサイトで実質連続的に検知し、得られたシロキサン化合物濃度に基づいて、前記ガス精製装置の運転諸元を決定することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

シロキサン化合物含有ガスをガス精製装置に導入し、前記ガス中に含まれるシロキサン化合物を除去して精製ガスを得るシロキサン化合物含有ガスの精製方法であって、前記ガス精製装置に導入する前の未処理のガスおよび/または導入した後の処理後のガスに含まれる前記シロキサン化合物の濃度をオンサイトで実質連続的に検知し、得られたシロキサン化合物濃度に基づいて、前記ガス精製装置の運転諸元を決定することを特徴とするシロキサン化合物含有ガスの精製方法。

IPC (6件)：

C10L 3/10 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/72 , G01N 21/61 , G01N 27/62 , G01N 30/88

FI (6件)：

G01N 21/61 , G01N 27/62 C , G01N 30/88 G , C10L 3/00 B , B01D 53/34 120 D , B01D 53/34 ZAB

Fターム (20件)：

2G059AA01 , 2G059BB01 , 2G059CC14 , 2G059EE01 , 2G059FF12 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059KK01 , 4D002AA26 , 4D002AC10 , 4D002BA04 , 4D002CA07 , 4D002CA09 , 4D002DA41 , 4D002DA45 , 4D002DA46 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB02 , 4D002GB20

引用特許：

審査官引用 (1件)

水分除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-298786 出願人：株式会社日立製作所

前のページに戻る