特許

J-GLOBAL ID：200903071754184973

セラミックヒータ

発明者： 伊藤 康隆 ,  古川 正和
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-238779
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135464
出願日： 2000年08月07日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 半導体ウエハ等の加熱対象物を全体的に均一に加熱することができるセラミックヒータを提供すること。【解決手段】 円板形状の窒化物セラミック基板の表面または内部に発熱体を設けてなるセラミックヒータにおいて、前記発熱体は、同心円形状または渦巻き形状のパターンと、屈曲線の繰り返しパターンの発熱体が混成して形成されていることを特徴とするセラミックヒータ。

請求項（抜粋）：

円板形状のセラミック基板の表面または内部に発熱体を設けてなるセラミックヒータにおいて、前記発熱体は、同心円形状または渦巻き形状のパターンと、屈曲線からなるパターンの発熱体が混成して形成されていることを特徴とするセラミックヒータ。

IPC (7件)：

H05B 3/10 ,  H01L 21/027 ,  H05B 3/16 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 328 ,  H05B 3/20 393 ,  H05B 3/68

FI (8件)：

H05B 3/10 A ,  H05B 3/10 C ,  H05B 3/16 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 328 ,  H05B 3/20 393 ,  H05B 3/68 ,  H01L 21/30 567

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ウエハ加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-235275   出願人：京セラ株式会社
• ヒーターおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-210014   出願人：イビデン株式会社