特許

J-GLOBAL ID：200903071756897306

被膜形成用低融点ガラス

発明者： 西川 和浩 ,  高山 亜弓
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-220885
公開番号（公開出願番号）：特開平10-067534
出願日： 1996年08月22日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 表示パネル基板、特に反射型PDP基板等に透明電極線パターンを形成し、更にそれを絶縁被覆するうえで適用される低融点ガラスであって、組成範囲および熱物性を規定したことにより、従来にない透明性、透視性に優れる被膜形成用低融点ガラスを提供する。【構成】 基板上に絶縁性の被膜を形成するための低融点ガラスであって、その成分組成がwt%表示でSiO2 2〜7、B2O3 15〜25、Al2O3 0〜8、ZnO 3〜15、PbO 60〜75、CaO 、MgO 、 SrO またはBaO より選択される1種または2種以上を0〜6の範囲で含み、かつ軟化点が 450〜 480°C、熱膨張係数が77〜90×10-7/°Cである被膜形成用低融点ガラス。

請求項（抜粋）：

基板上に絶縁性の被膜を形成するための低融点ガラスであって、その成分組成がwt%表示でSiO2 2〜7、B2O3 15〜25、Al2O3 0〜8、ZnO 3〜15、PbO 60〜75、CaO 、MgO 、 SrO またはBaO より選択される1種または2種以上を0〜6の範囲で含み、かつ軟化点が 450〜 480°C、熱膨張係数が77〜90×10-7/°Cであることを特徴とする被膜形成用低融点ガラス。

IPC (4件)：

C03C 3/072 ,  C03C 8/10 ,  G09F 9/30 348 ,  H01J 11/02

FI (4件)：

C03C 3/072 ,  C03C 8/10 ,  G09F 9/30 348 ,  H01J 11/02 B