成膜装置及び方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-046628
公開番号（公開出願番号）：特開平9-209143
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】微小部品の任意の表面や場所に任意のパターン形状の成膜を行うこと及び複数の微小物の境界部に成膜を行い接着・接合を行うことができる装置及び方法を提供する。【解決手段】エネルギー粒子を生成するエネルギー粒子源と、エネルギー粒子の照射によってスパッタ粒子を生成するターゲットTが一体となっている。

請求項（抜粋）：

エネルギー粒子を生成するエネルギー粒子源と、該エネルギー粒子の照射によってスパッタ粒子を生成するターゲットが一体となっていることを特徴とする成膜装置。

IPC (5件)：

C23C 14/46 , B01J 19/08 , G21K 5/04 , H01L 21/203 , H05H 1/26

FI (6件)：

C23C 14/46 Z , C23C 14/46 C , B01J 19/08 F , G21K 5/04 Z , H01L 21/203 S , H05H 1/26

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平2-221371
集束イオンビーム蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-009303 出願人：株式会社島津製作所
特開昭63-186871

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審査官引用 (2件)

特開平2-221371
集束イオンビーム蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-009303 出願人：株式会社島津製作所

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