高分子膜の光学的異方性発現方法、リオトロピック液晶の配向方法、配向色素膜、及び、配向色素膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松山圭佑 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-028992
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226448
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】光反応性高分子膜を、効率的に光再配向現象により、光学的異方性を発現させ、且つこれを利用してリオトロピック液晶を配向させるとともに、配向色素膜を形成する。【解決手段】側鎖あるいは主鎖に光反応基を有する光反応性高分子膜に直線偏光を照射することにより、その光反応性高分子の遷移モ-メントの方向を変化させ、その結果として、分子軸の配向方向が照射偏光軸に対して垂直方向に優先的に並び替えを起こす光再配向を生起させる。このとき、直線偏光照射量は、偏光軸に平行なモニタ直線偏光及び垂直なモニタ直線偏光の吸光度の比である2色比がほぼ飽和値となるように設定する。

請求項（抜粋）：

側鎖あるいは主鎖に光反応基を有する光反応性高分子膜に直線偏光を照射することにより、その光反応性高分子の遷移モ-メントの方向を変化させ、その結果として、分子軸の配向方向が照射偏光軸に対して垂直方向に優先的に並び替えを起こす光再配向を生起させる高分子膜の光学的異方性発現方法において、前記直線偏光照射時の前記光反応性高分子への入射光子量を、該光反応性高分子における、前記偏光軸に平行なモニタ-直線偏光及び垂直なモニタ-直線偏光の吸光度の比である2色比がほぼ飽和値に増大するまでにしたことを特徴とする高分子膜の光学的異方性発現方法。

IPC (4件)：

C08G 65/02 , C08F 20/36 , C08G 73/00 , C08J 5/18

FI (4件)：

C08G 65/02 , C08F 20/36 , C08G 73/00 , C08J 5/18

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