特許

J-GLOBAL ID：200903071781507130

汚染地下水の原位置浄化工法

発明者： 川 端 淳 一 ,  河 合 達 司 ,  伊 藤 圭二郎 ,  吉 田 宏 ,  上 沢 進
出願人/特許権者： 鹿島建設株式会社 ,  ケミカルグラウト株式会社
代理人 (2件)： 高橋 敏忠 ,  高橋 敏邦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-172548
公開番号（公開出願番号）：特開2004-016865
出願日： 2002年06月13日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】汚染地盤中の地下水が下流部へ流出しないようにするためウォータージェットの利用によって浄化体を形成し汚染地下水の原位置浄化工法を提供する。【解決手段】多重管(1)を削孔されたパイロット孔(10)に挿入し、高圧水のウォータージェット(J1)によって所定範囲内の切削を行い、同時に多重管(1)のウォータージェット下方に設けられた噴射孔(2)より還元性浄化材混合液を噴射しつつ引き上げて地盤と還元性浄化材とを攪拌混合し、前記浄化材混合液の噴射注入後に上部にできた空洞部(16)に固化材を注入し難透水層を形成して浄化体を形成し汚染地下水を原位置浄化する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

汚染土壌地盤中にウォータージェットを利用して浄化体を形成し汚染地下水を浄化する原位置浄化工法であって、多重管を削孔されたパイロット孔に挿入し高圧水のウォータージェットによって所定範囲内の切削を行い、同時に多重管のウォータージェット下方に設けられた噴射孔より還元性浄化材混合液を噴射しつつ引き上げて地盤と還元性浄化材とを攪拌混合し、前記浄化材水溶液の噴射注入後に上部にできた空洞部に固化材を注入し難透水層を形成して浄化体を形成し汚染地下水を原位置浄化することを特徴とする汚染地下水の原位置浄化工法。

IPC (4件)：

C02F1/70 ,  B09C1/02 ,  B09C1/08 ,  C02F11/00

FI (3件)：

C02F1/70 Z ,  C02F11/00 C ,  B09B3/00 304K

Fターム (20件)：

4D004AA41 ,  4D004AB06 ,  4D004AC07 ,  4D004BB04 ,  4D004CA04 ,  4D004CA37 ,  4D004CA40 ,  4D004CA45 ,  4D004CB13 ,  4D004CB42 ,  4D004CB50 ,  4D004CC11 ,  4D050AA20 ,  4D050AB19 ,  4D050BA02 ,  4D050BD03 ,  4D059AA09 ,  4D059BK15 ,  4D059CA14 ,  4D059CB01

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 地下浄化壁の施工法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-265408   出願人：鹿島建設株式会社, ケミカルグラウト株式会社
• 特開昭60-129322
  
• 汚染土壌・地下水の浄化方法と浄化用攪拌ウエル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-276665   出願人：清水建設株式会社
• 汚染地盤の浄化処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-349916   出願人：鹿島建設株式会社, ケミカルグラウト株式会社