特許
J-GLOBAL ID：200903071787743820
レーザビームを発生させる方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田代 烝治 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-523435
公開番号（公開出願番号）：特表平10-505713
出願日： 1996年02月01日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】レーザビームを発生させる方法およびこの方法を実施するためのレーザ装置が開示される。第1段階において、ガスがX線によりイオン化され、第2段階において、予備放電により電子密度が増大せしめられる。第3段階において、主放電が生起する。本発明方法においては、ことに好ましいビーム形態、ことに均斉なビーム形態をもたらすために、電子再分布速度および/または予備放電と主放電の間の遅延時間を、相互間において調節可能、制御可能になされる。遅延時間を、単数もしくは複数の処理パラメータの変更により有利に設定し得るので、単一の同じレーザ装置で、装置稼働中においても、レーザビームを簡単かつ柔軟な態様で変化させることができる。
請求項（抜粋）：
少なくとも部分的にイオン化されたガスに第1時点において第1電圧パルスを賦課して電子倍増させ、次いで第2時点において第2電圧パルスを賦課して放電させることによりレーザビームを発生させる方法であって、一方において第1時点と第2時点間の遅延時間(Δt)と、他方においてこれら両時点間に生起する電子再分布速度との適当な組合わせを、ビーム軸線に直交し、かつ電圧パルスにより形成される電界に直交する方向において望ましいレーザビーム形態がもたらされるように選定し、設定することを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01S 3/097 E
, H01S 3/223 E
