特許
J-GLOBAL ID：200903071795848010
しわたるみ消失化粧用材料
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-045445
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258061
出願日： 1994年03月16日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【目的】 皮膚の無理な引張及び極端な成膜がなく、肌荒れ及びシミ等の発生が防止され、穏やかな作用でシワを伸ばすことができると共に、顔等に塗った場合の違和感等が生じないしわたるみ消失化粧用材料を提供する。【構成】 デオキシリボ核酸を1.5乃至4重量%、コラーゲンを1乃至10重量%含有し、更に、保湿剤として2乃至10重量%のヒアルロン酸と、1乃至10重量%のキチン酸を含有し、ゲル形成基剤として0.5乃至2重量%のカルボキシビニールポリマーを含有する。
請求項（抜粋）：
デオキシリボ核酸及びコラーゲンを含有することを特徴とするしわたるみ消失化粧用材料。
IPC (2件)：
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