特許

J-GLOBAL ID：200903071801730248

転写用成形型

発明者： 横山 周史 ,  陽田 彰 ,  菊池 寛
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (4件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-547423
公開番号（公開出願番号）：特表2007-521985
出願日： 2004年12月22日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

本発明は、転写パターン層とは異なる材料からなるベースによって支持された、ポリマー材料からなるポジ型突起パターン表面を備えた転写パターン層を有する転写用成形型に関する。転写パターン層は、周囲温度で硬化可能な組成物から形成される。本発明はまた、転写用成形型のポジ型又はネガ型複製品を製造する方法ならびに転写用成型型の成形後の複製品(レプリカ)から微細構造体(例えば、プラズマバリアリブ)を製造する方法に関する。

請求項（抜粋）：

転写パターン層とは異なる材料からなるベースによって支持された、ポリマー材料からなるポジ型突起パターン表面を備えた転写パターン層を有する転写用成形型。

IPC (5件)：

B29C 39/26 ,  B29C 33/42 ,  B29C 59/02 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02

FI (5件)：

B29C39/26 ,  B29C33/42 ,  B29C59/02 B ,  H01J9/02 F ,  H01J11/02 B

Fターム (31件)：

4F202AA44L ,  4F202AG05 ,  4F202AG28 ,  4F202AH42 ,  4F202AH77 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ05 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA01 ,  4F202CB13 ,  4F202CD23 ,  4F202CD30 ,  4F202CK43 ,  4F202CK88 ,  4F202CK90 ,  4F209AA33 ,  4F209AA42 ,  4F209AA45 ,  4F209AG21 ,  4F209AG28 ,  4F209AH75 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5C027AA09 ,  5C040GF19 ,  5C040JA19