特許

J-GLOBAL ID：200903071835448878

ウェーハのクリーニングに使用する装置

発明者： ゲイリー・エル・アンダーソン ,  キース・ウィルソン
出願人/特許権者： エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-056152
公開番号（公開出願番号）：特開平9-330905
出願日： 1997年03月11日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：

【要約】【課題】 ウェーハを粒子汚染物から保護するウェーハのクリーニングに用いる装置を提供する。【解決手段】 半導体ウェーハを清掃し乾燥する装置は、垂直状態で該ウェーハを処理できる。装置はウェーハをほぼ垂直方向に該装置の入口ステーションから装置の乾燥機に移動する。ウェーハはカセットに収容されて装置に入り、個々のウェーハの同一性を保つために、入口カセットに配列された順序と同一の順序で別のカセットに入れられて出る。装置は、ウェーハが処理される部屋が隔離され、上記部屋の中のウェーハ取り扱い要素がフッ素系プラスチックで作られるように構成されている。ウェーハ取り扱い要素の動きを駆動するアクチュエータは別の部屋に設けてある。動き取り扱い室のリンス装置は、リンスラインに弁を使用せずにウェーハの一つをリンスするために作動し停止される。

請求項（抜粋）：

半導体ウェーハの自動クリーニングに用いる装置で、上記装置は、垂直に保持された複数のウェーハを受けるウェーハ入口ステーションと、上記ウェーハを垂直に向けたままで上記ウェーハ入口ステーションから一度に一枚のウェーハ移送する第1のウェーハ移送手段と、上記第1のウェーハ移送手段から一枚のウェーハを受けて上記ウェーハを垂直に保持するように構成され、上記第1のウェーハ移送手段から受けたウェーハのほぼ中心を通る軸を中心として、上記一枚のウェーハに付着した液体を上記ウェーハから飛散させるために選択された回転速度で回動可能な回転式乾燥機と、上記一枚のウェーハを上記回転式乾燥機から垂直状態で移送する第2のウェーハ移送手段と、上記第2のウェーハ移送手段から上記一枚のウェーハを垂直状態で受けるウェーハ出口ステーションとを備えている。

IPC (3件)：

H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351

FI (3件)：

H01L 21/304 361 S ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/304 351 S