特許
J-GLOBAL ID：200903071841897447
プラズマCVD装置用粉除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254341
公開番号（公開出願番号）：特開2001-073143
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：
【要約】【課題】排気用ポンプの目詰まりや排気能力の低下を回避することを課題とする。【解決手段】プラズマ発生部31と、このプラズマ発生部31と排気管32、35、46を介して接続された排気用ポンプ34a,34bとを有するプラズマCVD装置において、プラズマ発生部11にたまるSi系紛37を除去する方法であり、前記排気管32が垂直に下降している部位の最下部に、前記プラズマ発生部11から配管内に堆積した内紛を落下させて収容する収容部38を設けるとともに、該収容部38のSi系粉37を外部へ取り出す開閉自在なフランジ39を設けたことを特徴とするプラズマCVD装置用粉除去方法。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生部と、このプラズマ発生部と配管を介して接続された排気用ポンプとを有するプラズマCVD装置において、配管内部にたまる内紛を除去する方法であり、前記配管が垂直に下降している部位の最下部に、前記プラズマ発生部から配管内に堆積した内紛を落下させて収容する収容部を設けるとともに、該収容部の粉を外部へ取り出す開閉自在なフランジを設けたことを特徴とするプラズマCVD装置用粉除去方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 J
, H01L 21/31 C
4K030BA29
, 4K030EA12
, 4K030FA01
, 4K030KA45
, 5F045AA08
, 5F045BB10
, 5F045EB05
, 5F045EC07
, 5F045EG01
, 5F045EG04
, 5F045EG08
, 5F045EH04
, 5F045EH12
