特許
J-GLOBAL ID：200903071843021549
塗布膜の乾燥方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-295234
公開番号（公開出願番号）：特開平7-147220
出願日： 1993年11月25日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：
【要約】【目的】 基板等の表面の塗布膜の剥がれを防止する乾燥方法を提供する。【構成】 膜形成成分を含む溶液を含有する溶液を基板表面に回転塗布して膜を形成し(ステップ101)、基板に塗布膜を形成した後(ステップ102)、この基板を減圧雰囲気のもとに常温乾燥し(ステップ103)、ついでベーク乾燥を行い(ステップ105)、ガス抜けの悪い表層が形成されないようにする。
請求項（抜粋）：
膜形成成分を含む溶液を含有する溶液を物体表面に塗布して膜を形成し、この膜を強制的に乾燥させるための乾燥方法であって、前記物体表面に前記膜を形成後、これを減圧雰囲気のもとに常温乾燥し、ついで加熱乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 502
