特許

J-GLOBAL ID：200903071857202619

プリント基板積層用離型シート

発明者： 島尻 芳文
出願人/特許権者： 昭和アルミニウム株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 孝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-336207
公開番号（公開出願番号）：特開平5-147055
出願日： 1991年11月26日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：

【要約】【構成】 金属板の表面にポリシロキサンをコーティングしてなるプリント基板積層用離型シート。【効果】 絶縁材として従来のガラスエポキシよりも加工温度(ホットプレス)の高いポリイミド等を使用したプリント基板に使用でき、その離型性が極めて良好なプリント基板積層用離型シートが得られる。

請求項（抜粋）：

金属板の表面にポリシロキサンをコーティングしてなるプリント基板積層用離型シート。

IPC (8件)：

B29C 43/32 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/14 ,  B05D 7/24 302 ,  B29C 43/18 ,  B32B 15/08 ,  H05K 3/46 ,  B29K105:06