特許
J-GLOBAL ID：200903071863518563
フッ素化ビスフタロニトリル化合物およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
植木 久一
, 小谷 悦司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-196931
公開番号（公開出願番号）：特開2005-035892
出願日： 2003年07月15日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】ポリアミドやポリイミドの原料となるビスフタロニトリル化合物であって、最終的に高分子とされた場合に独自の屈折率を示すことができ、且つ安価に製造できるものを提供する。【解決手段】本発明に係る化合物は、下記式(I)で表されるフッ素化ビスフタロニトリル化合物である。【化1】[上記式中、XおよびYは互いに独立して酸素原子または硫黄原子を示し、mは1または2を示す。また、1つのベンゼン環上に置換している2つのシアノ基は、互いに隣接する。]
請求項（抜粋）：
下記式(I)で表されるフッ素化ビスフタロニトリル化合物。
IPC (14件)：
C07D319/24
, C07C69/66
, C07C69/738
, C07C69/80
, C07C69/92
, C07C205/57
, C07C229/56
, C07C233/66
, C07C233/67
, C07C233/73
, C07C235/64
, C07C271/48
, C07D327/08
, C07D339/08
C07D319/24
, C07C69/66
, C07C69/738 Z
, C07C69/80 Z
, C07C69/92
, C07C205/57
, C07C229/56
, C07C233/66
, C07C233/67
, C07C233/73
, C07C235/64
, C07C271/48
, C07D327/08
, C07D339/08
4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB22
, 4H006AB23
, 4H006AB28
, 4H006BJ50
, 4H006BM30
, 4H006BM71
, 4H006BM72
, 4H006BP30
, 4H006BR30
, 4H006BT30
, 4H006BU26
, 4H006BU38
, 4H006BV55
, 4H006RA20
