特許

J-GLOBAL ID：200903071863937337

熱処理装置

発明者： 山本 博之 ,  齋藤 幸正
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-236202
公開番号（公開出願番号）：特開2000-068260
出願日： 1998年08月24日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】 ガス供給系の全部位を均一に加熱して処理ガスの凝結を十分に防止し、処理ガスの安定供給を可能とする。【解決手段】 被処理体Wを収容した熱処理炉1内にガス供給系6により処理ガスを供給して所定の熱処理を行う熱処理装置において、前記処理ガス供給系6を処理ガスの凝結を起こさない所定の温度に保持された恒温槽16内に収容してなる。

請求項（抜粋）：

被処理体を収容した熱処理炉内にガス供給系により処理ガスを供給して所定の熱処理を行う熱処理装置において、前記処理ガス供給系を処理ガスの凝結を起こさない所定の温度に保持された恒温槽内に収容してなることを特徴とする熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/448 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 D ,  C23C 16/44 C ,  H01L 21/205

Fターム (14件)：

4K030AA11 ,  4K030CA04 ,  4K030EA01 ,  4K030GA02 ,  4K030KA25 ,  4K030KA41 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AD12 ,  5F045AE15 ,  5F045DP19 ,  5F045EC09 ,  5F045EE02