特許

J-GLOBAL ID：200903071868222204

半導体製造装置用排気装置

発明者： 丸林 哲也
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-006002
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195332
出願日： 1995年01月18日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 真空用排気配管から分岐された計器類及び機能ライン類の小径の接続配管内に反応副生成物又は未反応プロセスガスが付着し、計器類のトラブル、機能ラインの不調を起すことを回避する。【構成】 半導体製造装置22の真空用排気配管9,17,25に計器類等の接続配管より大径の分岐配管24A〜24Dを接続し、この分岐配管24A〜24Dに、計器類等の接続配管26を接続し、この配管26に計器類11,14,機能ライン12,13,15,16,21を接続することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

半導体製造装置の真空用排気配管に計器類等の接続配管より大径の分岐配管を接続し、この分岐配管に、計器類等の接続配管を接続し、この配管に計器類,機能ラインを接続することを特徴とする半導体製造装置用排気装置。

IPC (4件)：

H01L 21/00 ,  F16K 24/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501