特許
J-GLOBAL ID：200903071873579404
ジャイロトロン装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-355158
公開番号（公開出願番号）：特開2002-163996
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、ジャイロトロン装置のエージング時間の短縮および安定な長パルス動作を目的とする。【解決手段】 ジャイロトロン装置を製造する際に、高周波発生装置21、23からジャイロトロン管本体1の内部に高周波を入力しながら真空ポンプ22で真空排気をすることにより、ジャイロトロン装置の動作時に管内壁表面および管内部品表面から発生するアウトガスを予め低減する。これにより、ジャイロトロン装置のエージングに求められる期間が短縮されるとともに長パルス幅の動作パルスを出力可能なジャイロトロン装置が得られる。
請求項（抜粋）：
ジャイロトロン装置の製造方法において、ジャイロトロン管本体の外部から該管本体の内部に高周波を入力しながら真空排気をすることにより、前記ジャイロトロン装置の動作時に管内壁表面および管内部品表面から発生するアウトガスを低減することを特徴とするジャイロトロン装置の製造方法。
Fターム (1件)：
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