特許
J-GLOBAL ID：200903071873582570
希釈排気装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 国則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-307586
公開番号（公開出願番号）：特開平6-132238
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 被希釈ガスの濃度を低下させても被希釈ガス放出装置側に多大な負圧がかからない希釈排気装置を提供すること。【構成】 被希釈ガスと不活性ガスとをエジェクター5にて混合し、所定濃度にした被希釈ガスを排気する希釈排気装置1で、エジェクター5を貫通する流通孔51の入口5aに不活性ガスを供給する流入通路21を連通し、絞り込み部5bに被希釈ガスを導入する導入通路22を連通し、さらに出口5cに所定濃度にした被希釈ガスを排気する排気通路23を取り付け、流入通路21と導入通路22との間にバイパス通路24およびニードルバルブ6を設ける。
請求項（抜粋）：
被希釈ガス放出装置から放出される被希釈ガスと、所定流量の不活性ガスとをエジェクターにて混合し、該エジェクターから所定濃度にした被希釈ガスを排気する希釈排気装置であって、前記エジェクターの内部を貫通する流通孔の入口と連通し、前記不活性ガスを供給するための流入通路と、前記流通孔の略中央に設けられた絞り込み部と連通し、前記被希釈ガス放出装置から前記被希釈ガスを導入するための導入通路と、前記流通孔の出口に取り付けられ、前記所定濃度にした被希釈ガスを排気するための排気通路とが設けられ、前記流入通路と前記導入通路との間にバイパス通路が設けられていることを特徴とする希釈排気装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, B01D 53/34
, H01L 21/22
