特許
J-GLOBAL ID：200903071884303168
シリコンウエハの熱処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-314617
公開番号（公開出願番号）：特開平5-152230
出願日： 1991年11月28日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】還元性ガス雰囲気中での熱処理によりシリコンウェハのOSFの発生を抑制しながら、熱処理中のウェハの落下事故や、ウェハの局所的なエッチングを防止できる熱処理方法を提供する。【構成】シリコンウェハをシリコン製のボートに載せ、水素を含有する還元性ガス雰囲気中、1000〜1300°Cで熱処理する。
請求項（抜粋）：
シリコンウェハをシリコン製のボートに載せ、還元性ガス雰囲気中、1000〜1300°Cで熱処理することを特徴とするシリコンウェハの熱処理方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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