ガスハイドレート生成装置およびガスハイドレート生成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤田考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-224680
公開番号（公開出願番号）：特開2003-041270
出願日： 2001年07月25日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】装置系を安定に制御して生成効率の向上を図ることができるガスハイドレート生成装置および生成方法を提供すること。【解決手段】ハイドレート生成量の目標値と前記生成量検出手段により検出された実際のハイドレート生成量との偏差を求める偏差算出手段73と、スプレイ量調節指令を前記偏差算出手段73によって算出された前記偏差に基づいて算出する制御器74とを備え、前記圧力の目標値と前記圧力検出手段により検出された実際の圧力との偏差を求める偏差算出手段70と、圧力調節指令を前記偏差算出手段70によって算出された前記偏差に基づいて算出する制御器71とを備え、さらに、前記温度の目標値と前記温度検出手段により検出された実際の温度との偏差を求める偏差算出手段76と、温度調節指令を前記偏差算出手段76によって算出された前記偏差に基づいて算出する制御器77とを備えている。

請求項（抜粋）：

反応容器の内部でガスと過冷却水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、前記反応容器内に噴霧される過冷却水の噴霧量を制御するスプレイ量制御手段と、ハイドレート生成量を検出する生成量検出手段と、ハイドレート生成量の目標値と前記生成量検出手段により検出された実際のハイドレート生成量との偏差を求める偏差算出手段と、前記スプレイ量制御手段を制御するスプレイ量調節指令を前記偏差算出手段によって算出された前記偏差に基づいて算出する制御器とを備えていることを特徴とするガスハイドレート生成装置。

IPC (8件)：

C10L 3/06 , B01J 19/00 , C07B 61/00 , C07B 63/02 , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04 , F17C 11/00

FI (8件)：

B01J 19/00 A , C07B 61/00 C , C07B 63/02 B , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04 , F17C 11/00 B , C10L 3/00 A

Fターム (18件)：

3E072EA10 , 4G075AA03 , 4G075AA61 , 4G075AA62 , 4G075AA63 , 4G075AA65 , 4G075BA10 , 4G075CA03 , 4G075CA65 , 4G075CA66 , 4G075DA01 , 4H006AA02 , 4H006AA04 , 4H006AC93 , 4H006AD33 , 4H006BA91 , 4H006BC10 , 4H006BC11

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