特許
J-GLOBAL ID:200903071897949512
基板処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-048252
公開番号(公開出願番号):特開2000-249440
出願日: 1999年02月25日
公開日(公表日): 2000年09月14日
要約:
【要約】【課題】 冷却流体の使用量を低減する。【解決手段】 基板処理装置1Aには冷却水が供給される処理ユニット2が複数備えられている。冷却水供給源に連通接続された供給元管10から個別供給管11が分岐されて、各個別供給管11を介して各処理ユニット2に冷却水を個別に供給するように配管されている。各個別供給管11ごとに、処理ユニット2の上流側に流量調節弁20を設け、処理ユニット2の下流側に温度センサ21を設けている。各処理ユニット2にはそれぞれ、個別コントローラー22が備えられ、各個別コントローラー22が、温度センサ21で検知されている処理ユニット2から排出される冷却水の温度を基に、流量調節弁20の弁の開度を調節制御して、処理ユニット2への冷却水の供給流量を変更するように構成している。
請求項(抜粋):
冷却流体が供給される処理ユニットを備えた基板処理装置において、前記処理ユニットに供給する冷却流体の流量を変更する供給流量変更手段と、前記供給流量変更手段による前記処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
F25D 1/02 B
, H01L 21/30 567
Fターム (11件):
3L044AA01
, 3L044BA06
, 3L044CA14
, 3L044DB01
, 3L044GA02
, 3L044HA01
, 3L044HA03
, 3L044JA01
, 3L044KA05
, 5F046KA01
, 5F046KA04
引用特許:
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