特許
J-GLOBAL ID:200903071910068024
ガスを用いた洗浄方法および洗浄装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-144222
公開番号(公開出願番号):特開平9-323072
出願日: 1996年06月06日
公開日(公表日): 1997年12月16日
要約:
【要約】【課題】 ガスを用いた洗浄方法および洗浄装置に関し、洗浄効率が高い、ガスを用いた洗浄技術を提供する。【解決手段】 真空排気可能な洗浄室(30)と、前記洗浄室内に配置され、複数のノズル(32)を含むノズルヘッダ(31)と、前記洗浄室内で、前記ノズルヘッダのノズルより噴射されるガス流を斜方より受ける位置に配置されたシールド手段(107、108、103)であって、該ガス流を受ける位置に配置された開口部(AP)と、該開口部よりも該ノズルヘッダ側に配置された平面状の第1のシールド板(107)と、該開口部を挟んで該第1のシールド板と対向し、該第1のシールド板と交差する方向に沿って配置された複数の第2のシールド板(108a〜108f)とを含むシールド手段とを有する。
請求項(抜粋):
複数のノズルより噴射するガスを洗浄対象物の表面に斜方より当てて該表面を洗浄する洗浄方法であって、開口部を挟んで、開口部を含む平面に沿って配置された平面状の第1のシールド板と、開口部に平行かつ前記平面と交差する方向に沿って配置された複数の第2のシールド板とを対向配置したシールド手段の一方の側に洗浄対象物の表面を配置する工程と、前記シールド手段の他方の側から、前記開口部に露出している前記洗浄対象物の表面に向けて斜方より、かつ前記第1のシールド板から前記複数の第2のシールド板に向かう方向に沿って前記複数のノズルよりガスを噴射する噴射工程とを含むガスを用いた洗浄方法。
IPC (3件):
B08B 5/02
, B08B 3/02
, B65B 55/24
FI (3件):
B08B 5/02 Z
, B08B 3/02 A
, B65B 55/24
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