特許
J-GLOBAL ID:200903071915844405
超純水製造用膜分離装置の洗浄装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-161033
公開番号(公開出願番号):特開2007-229718
出願日: 2007年06月19日
公開日(公表日): 2007年09月13日
要約:
【課題】シリコンウェーハ、システムLSIなどの製造工場などで使用される超純水中へのアミンの溶出を効果的に防止し、純度の極めて高い超純水を安定して供給することができる超純水製造用膜分離装置の洗浄装置を提供する。【解決手段】膜分離装置の給水入口と脱着可能な連結部を有する洗浄水供給配管、膜分離装置の透過水出口と脱着可能な連結部を有する透過水排出配管、膜分離装置の濃縮水出口と脱着可能な連結部を有する濃縮水排出配管を有し、洗浄水供給配管に弁と流量調整手段が、透過水排出配管に弁が、濃縮水排出配管に弁がそれぞれ設けられるとともに、洗浄水供給配管に分岐して弁を有するブロー水配管が接続されてなることを特徴とする超純水製造用膜分離装置の洗浄装置。【選択図】図3
請求項(抜粋):
膜分離装置の給水入口と脱着可能な連結部を有する洗浄水供給配管、膜分離装置の透過水出口と脱着可能な連結部を有する透過水排出配管、膜分離装置の濃縮水出口と脱着可能な連結部を有する濃縮水排出配管を有し、洗浄水供給配管に弁と流量調整手段が、透過水排出配管に弁が、濃縮水排出配管に弁がそれぞれ設けられるとともに、洗浄水供給配管に分岐して弁を有するブロー水配管が接続されてなることを特徴とする超純水製造用膜分離装置の洗浄装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (17件):
4D006GA02
, 4D006HA03
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA61
, 4D006HA77
, 4D006JA52Z
, 4D006JA55Z
, 4D006KA67
, 4D006KC02
, 4D006MA01
, 4D006MA02
, 4D006MA03
, 4D006MA04
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PC02
引用特許:
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