特許

J-GLOBAL ID：200903071926632108

光情報記録媒体用スタンパの製造方法

発明者： 工藤 譲
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 小島 俊郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-366667
公開番号（公開出願番号）：特開2002-170289
出願日： 2000年12月01日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 下層に形成された露光ビームスポット径以下の微細溝パターンを損なうことなく、かつ低欠陥・低コストでスタンパ化することができる光情報記録媒体用スタンパの製造方法を提供する。【解決手段】 原盤11上に水溶性樹脂層12を形成する工程と、水溶性樹脂層の上にフォトレジスト膜13を形成する工程と、フォトレジスト膜を熱処理する工程と、原盤をガラス板18に接合して裏打ちする工程と、光ビーム20により所定の溝パタンをフォトレジスト膜へ露光する工程と、露光済みのフォトレジスト膜を、現像、洗浄後、水溶性樹脂層のエッチングを行って水溶性樹脂層に微細パターンを形成する工程と、原盤表面に導電皮膜を形成し、ニッケル電鋳してニッケル層を積層させる工程と、ガラス板を原盤から剥離する工程と、原盤及び水溶性樹脂層を溶解除去・水洗浄する工程と、ニッケル層を裏面研磨・内外径加工してマスタスタンパ盤を製作する工程とを有する。

請求項（抜粋）：

原盤上に水溶性樹脂を塗布して水溶性樹脂層を形成する工程と、水溶性樹脂層の上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト膜を形成する工程と、フォトレジスト膜を熱処理する工程と、原盤をガラス板に接合して裏打ちする工程と、光ビームにより所定の溝パタンをフォトレジスト膜へ露光する工程と、露光済みのフォトレジスト膜を、アルカリ性現像液による現像、現像後の純水洗浄すると同時に、水溶性樹脂層のエッチングを行って水溶性樹脂層に微細パターンを形成する工程と、原盤表面に導電皮膜を形成し、導電皮膜をニッケル電鋳してフォトレジストの溝パタンと凹凸が逆転した溝パタンを有するニッケル層を積層させる工程と、ガラス板を原盤から剥離する工程と、原盤及び水溶性樹脂層を溶解除去・水洗浄する工程と、前記ニッケル層を裏面研磨・内外径加工してマスタスタンパ盤を製作する工程とを有することを特徴とする光情報記録媒体用スタンパの製造方法。

IPC (4件)：

G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 501 ,  B29C 33/38 ,  B29L 17:00

FI (4件)：

G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 501 ,  B29C 33/38 ,  B29L 17:00

Fターム (17件)：

4F202AH79 ,  4F202CB01 ,  4F202CD12 ,  4F202CD24 ,  5D121AA02 ,  5D121BA01 ,  5D121BA05 ,  5D121BB05 ,  5D121BB25 ,  5D121BB33 ,  5D121BB34 ,  5D121CA03 ,  5D121CB03 ,  5D121CB08 ,  5D121GG18 ,  5D121GG22 ,  5D121GG24