特許

J-GLOBAL ID：200903071936604986

除草剤としての新規のピロリジン-2-チオン誘導体

発明者： バーンズ,ナイジェル・ジョン ,  バーバー,リチャード・アンソニー
出願人/特許権者： ゼネカ・リミテッド
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-500501
公開番号（公開出願番号）：特表平10-500984
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】式(I)(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素、場合により置換された低級ヒドロカルビル、または場合により置換されたヘテロアリールであり、或いは、R1およびR2は、それらが結合している窒素原子と一緒に複素環式環を形成し;R3、R4、R5およびR6は独立して、HまたはC1-4アルキルであり;Zは、ハロゲン、場合により置換された低級ヒドロカルビル、場合により置換された低級ヒドロカルビルオキシ、場合により置換された低級ヒドロカルビルチオ、ヒドロカルビルスルフィニル若しくはヒドロカルビルスルホニル、シアノ、ニトロ、CHO、NHOH、ONR7'R7"、SF5、CO(場合により置換された低級ヒドロカルビル)、アシルアミノ、COOR7、SO2NR8R9、CONR10R11、OR12またはNR13R14であり、ここにおいて、R7、R7'、R7"、R8、R9、R10およびR11は、独立して、Hまたは低級ヒドロカルビルであり;R12は、水素、SO2低級ヒドロカルビルまたはCOR15であり;R13およびR14は、独立して、低級ヒトロカルビル、低級ヒドロカルビルオキシまたは基R12であり;R15は、OR16、NR17R18、水素または低級ヒドロカルビルであり;R16は低級ヒドロカルビルであり、R17およびR18は、独立して、水素または低級ヒドロカルビルであり、但し、2個またはそれ以上の置換基Zが存在する場合、それらは同じであってよいしまたは異なっていてよいという条件付きであり;そしてmはOまたは1〜5の整数である)を有する化合物。

請求項（抜粋）：

式(I)(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素、場合により置換された低級ヒドロカルビル、または場合により置換されたヘテロアリールであり、或いは、R1およびR2は、それらが結合している窒素原子と一緒に複素環式環を形成し; R3、R4、R5およびR6は独立して、HまたはC1-4アルキルであり; Zは、ハロゲン、場合により置換された低級ヒドロカルビル、場合により置換された低級ヒドロカルビルオキシ、場合により置換された低級ヒドロカルビルチオ、ヒドロカルビルスルフィニル若しくはヒドロカルビルスルホニル、シアノ、ニトロ、CHO、NHOH、ONR7'R7"、SF5、CO(場合により置換された低級ヒドロカルビル)、アシルアミノ、COOR7、SO2NR8R9、CONR10R11、OR12またはNR13R14であり、ここにおいて、R7、R7'、R7"、R8、R9、R10およびR11は、独立して、Hまたは低級ヒドロカルビルであり;R12は、水素、SO2低級ヒドロカルビルまたはCOR15であり;R13およびR14は、独立して、低級ヒトロカルビル、低級ヒドロカルビルオキシまたは基R12であり;R15は、OR16、NR17R18、水素または低級ヒドロカルビルであり;R16は低級ヒドロカルビルであり、R17およびR18は、独立して、水素または低級ヒドロカルビルであり、但し、2個またはそれ以上の置換基Zが存在する場合、それらは同じであってよいしまたは異なっていてよいという条件付きであり;そして mは0または1〜5の整数である)を有する化合物。

IPC (2件)：

C07D207/24 ,  A01N 43/36

FI (2件)：

C07D207/24 ,  A01N 43/36 C