特許

J-GLOBAL ID：200903071955162242

流体の電磁界処理方法

発明者： 深町 進平
出願人/特許権者： エスケーエイ株式会社
代理人 (1件)： 西郷 義美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216089
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038363
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【目的】 流体の電磁界処理方法において、管体の内壁面への付着物の付着防止や管体の内壁面に付着した付着物の除去効果を向上し、しかも、管体の内壁面の腐食防止を向上することができ、また、環境への影響をなくすることができ、更に、小型の設備にしたり、廉価な処理促進剤や廉価な管体を使用することにより、コストを低減することにある。【構成】 流路を形成する管体の外側にコイルを設け、このコイルに特定設定帯域で周波数が時間的に変化する特定波形の電流を流す電流制御手段を設け、コイルに流れる電流によって誘起される電磁界により流路の流体を処理する流体の電磁界処理方法おいて、流路の流体には電磁界による流体の処理を促進する処理促進剤を添加している。

請求項（抜粋）：

流路を形成する管体の外側にコイルを設け、このコイルに特定設定帯域で周波数が時間的に変化する特定波形の電流を流す電流制御手段を設け、前記コイルに流れる電流によって誘起される電磁界により前記流路の流体を処理する流体の電磁界処理方法おいて、前記流路の流体には前記電磁界による流体の処理を促進する処理促進剤を添加したことを特徴とする流体の電磁界処理方法。

IPC (10件)：

C02F 1/48 ,  B08B 9/027 ,  B08B 17/02 ,  C02F 1/30 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 ,  C02F 5/00 620 ,  C02F 5/08 ,  C02F 5/10 620 ,  C02F 5/10 630

FI (10件)：

C02F 1/48 A ,  B08B 17/02 ,  C02F 1/30 ,  C02F 5/00 610 A ,  C02F 5/00 610 F ,  C02F 5/00 620 C ,  C02F 5/08 E ,  C02F 5/10 620 Z ,  C02F 5/10 630 ,  B08B 9/06

Fターム (28件)：

3B116AA13 ,  3B116AB53 ,  3B116BB89 ,  3B117AA05 ,  3B117BA51 ,  4D037AA11 ,  4D037AA13 ,  4D037AB06 ,  4D037AB10 ,  4D037AB12 ,  4D037BA17 ,  4D037BB01 ,  4D037BB08 ,  4D037BB09 ,  4D037CA05 ,  4D037CA07 ,  4D037CA08 ,  4D061DA08 ,  4D061DB05 ,  4D061DB09 ,  4D061DC01 ,  4D061DC18 ,  4D061EA18 ,  4D061EC01 ,  4D061EC11 ,  4D061ED20 ,  4D061FA14 ,  4D061GC12