特許

J-GLOBAL ID：200903071975335437

平面光導波路の製造方法

発明者： 鄭 善 太
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-193029
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072637
出願日： 1998年07月08日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】 光導波路内の有効屈折率が均一になって、より精密な光素子を得ることができる、均一な平面光導波路の製造方法を提供する。特にAWG DeMUX の場合、各チャンネルでの位相差が望みの値に一致して漏話が減少する。【解決手段】 基板に下位被覆層を堆積した後、堆積された表面を研磨する第1段階と、第1段階の結果物上にコア層を堆積した後、堆積された表面を研磨する第2段階と、光導波路を形成するために前記第2段階で表面研磨されたコア層をパターニングする第3段階と、第3段階でパターニングされて形成された光導波路上に上位被覆層を堆積した後、堆積された表面を研磨する第4段階よりなる。

請求項（抜粋）：

基板に下位被覆層を堆積した後、堆積された表面を研磨する第1段階と、前記第1段階の研磨済み表面上にコア層を堆積した後、堆積された表面を研磨する第2段階と、光導波路を形成するために前記第2段階で表面研磨されたコア層をパターニングする第3段階と、第3段階でパターニングされて形成された光導波路上に上位被覆層を堆積した後、堆積された表面を研磨する第4段階とを含むことを特徴とする均一な平面光導波路の製造方法。