特許

J-GLOBAL ID：200903071975460320

精密研磨剤

発明者： 石川 伸行 ,  小林 雅秀 ,  山本 伸 ,  西倉 宏 ,  岡 洋一
出願人/特許権者： 多木化学株式会社 ,  株式会社テックス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-159130
公開番号（公開出願番号）：特開平8-003541
出願日： 1994年06月17日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：

【要約】【目的】 高精度に材料表面を研磨することができる精密研磨剤を得る。【構成】 2以上のカルボキシル基を有する有機酸を含有したアルカリ性酸化第二セリウムゾルからなる精密研磨剤を得る。この精密研磨剤は研磨精度が優れ、しかも研磨時の材料研磨面への残留が無いことから、高精度の材料研磨が要求される光エレクトロニクス分野での材料研磨に好適である。

請求項（抜粋）：

2以上のカルボキシル基を有する有機酸を含有したアルカリ性酸化第二セリウムゾルからなる精密研磨剤。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  B01J 13/00 ,  C09K 13/06 101

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 酸化第二セリウムゾルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-323864   出願人：多木化学株式会社
• 特公昭44-023874
  
• 特開昭59-069932