特許
J-GLOBAL ID:200903072005833260
マルチチャンバシステム及びその搬送台車並びにゲートバルブさらにはその排気制御方法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-049301
公開番号(公開出願番号):特開平10-247675
出願日: 1997年03月04日
公開日(公表日): 1998年09月14日
要約:
【要約】【課題】本発明は、各種のマルチチャンバシステムやプロセスチャンバを簡単に採用してプロセスに連結でき、半導体ウエハに対するプロセス処理の信頼性を向上すること。【解決手段】搬送台車30に設けられた搬送用真空チャンバ39内に半導体ウエハを真空収納して各マルチチャンバシステム31a〜31c間を移動し、かつ真空状態となったベローズ43を通して半導体ウエハの取り出し及び挿入を行う。
請求項(抜粋):
処理対象に対する処理を行う少なくとも1つの処理室及び前記処理対象の搬入搬出を行う搬入搬出室を備えたマルチチャンバシステムにおいて、前記処理対象を真空中に保持する搬送用真空チャンバ、及びこの搬送用真空チャンバ内に備えられ、前記搬入搬出室に対して前記処理対象の取り出し及び挿入を行う搬送機構を備えて前記マルチチャンバシステム間を搬送する搬送台車、を具備したことを特徴とするマルチチャンバシステム。
IPC (3件):
H01L 21/68
, H01L 21/02
, H01L 21/205
FI (3件):
H01L 21/68 A
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (9件)
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移載装置及び方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-316046
出願人:株式会社荏原製作所
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薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-143036
出願人:三井東圧化学株式会社
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クリーン搬送方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-177803
出願人:テイーデイーケイ株式会社
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特開平4-254349
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排気装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-281784
出願人:新日本製鐵株式会社
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特開平3-158320
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半導体製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-041873
出願人:株式会社日立製作所
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特開平4-254349
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特開平3-158320
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