特許
J-GLOBAL ID：200903072007334040
プロセス異常監視方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-002736
公開番号（公開出願番号）：特開平9-191032
出願日： 1996年01月11日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：
【要約】【課題】 半導体ウエハのプロセスにおける異常の判定およびレビュー必要有無の判定を自動的に行う。【解決手段】 外観検査装置GK,異物検査装置PKからネットワークNtを介して欠陥・異物座標データをデータ格納手段DBに格納し、XY座標系のデータをrθ座標系の分割要素に変換し、各分割要素内の欠陥密度を演算部9が計算し、カイ2乗分布により分布異常を判定する。分布異常の場合、分布のグループ化および各グループ内欠陥密度分布の平均値、標準偏差を演算部9が計算し、これらの値と予め設定した条件式を比較し、主制御部12がレビューの必要性の有無を判定し、レビュー要と判定されるとアラーム発生器10により警告を行い、欠陥座標データをレビューステーションへ自動的に転送すると共に標準偏差と平均値をデータ格納手段DBに格納する。
請求項（抜粋）：
半導体ウエハにおける欠陥および異物の分布状態を測定するステップと、測定された分布状態を少なくとも1つの1次元データに変換するステップと、変換された前記1次元データを任意の分割要素に分割するステップと、前記分割要素における欠陥および異物の密度である欠陥異物密度を計算するステップと、計算された前記分割要素内の欠陥異物密度に基づいて、欠陥ならびに異物密度の分布である欠陥異物密度分布に異常がないか否かを判断するステップと、前記1次元データをグループ化するステップと、グループ化された各グループ毎の欠陥異物密度を計算するステップと、グループ化された各グループ毎の欠陥数および異物数の平均値と標準偏差を計算するステップと、計算された平均値および標準偏差から前記半導体ウエハの欠陥または異物の目視確認作業が必要か否かを判定するステップとを有することを特徴とするプロセス異常監視方法。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G01N 21/88
, G06T 7/00
H01L 21/66 A
, H01L 21/66 J
, G01N 21/88 E
, G06F 15/62 405 A
