特許

J-GLOBAL ID：200903072011529930

超純水供給装置

発明者： 北村 幸弘 ,  篠岡 次夫 ,  佐藤 勇 ,  吉田 晃 ,  筒井 正一
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 三浦 進二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-329796
公開番号（公開出願番号）：特開平5-138167
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：

【要約】【目的】 一次純水製造設備から二次純水製造設備に到る配管や二次純水製造設備内の一次純水貯槽等による一次純水の再汚染の影響を少なくしてユースポイントに超純水を供給する。【構成】 二次純水製造設備内の一次純水貯槽9と限外濾過装置13の間に二次処理系の逆浸透装置8’を設け、それに伴い、その前に紫外線照射装置6’を設ける。【効果】 二次処理系の逆浸透装置がユースポイント14に近いので、再汚染の影響が少ない超純水を供給できる。

請求項（抜粋）：

一次純水製造設備から流出した一次純水を貯留する二次純水(超純水)製造設備内の一次純水貯槽と最終段の限外濾過装置との間に逆浸透装置を設けたことを特徴とする超純水供給装置。

IPC (7件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/18 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 9/00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-222763