特許

J-GLOBAL ID：200903072029035071

電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光用マスク

発明者： 寺島 茂 ,  村木 真人 ,  松井 紳 ,  三宅 明 ,  奥貫 昌彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-283814
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135102
出願日： 1996年10月25日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 露光領域の拡大を可能にした電子ビーム露光装置の提供。【解決手段】 第1物体からの電子ビームを縮小電子光学系を介して第2物体上に縮小投影する電子ビーム露光装置において、前記縮小電子光学系の軸を中心とした2つの円弧で挟まれた前記第1物体の円弧状領域からの電子ビームが前記投影光学系を通過する際に発生する収差を補正する補正手段を有する。

請求項（抜粋）：

第1物体からの電子ビームを縮小電子光学系を介して第2物体上に縮小投影する電子ビーム露光装置において、前記縮小電子光学系の軸を中心とした2つの円弧で挟まれた前記第1物体の円弧状領域からの電子ビームが前記投影光学系を通過する際に発生する収差を補正する補正手段を有することを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G21K 5/04

FI (3件)：

H01L 21/30 541 R ,  G03F 9/00 H ,  G21K 5/04 M