特許
J-GLOBAL ID:200903072038704431

超純水製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-304990
公開番号(公開出願番号):特開平7-155744
出願日: 1993年12月06日
公開日(公表日): 1995年06月20日
要約:
【要約】【構成】本システムは活性炭塔101,逆浸透膜102,混床型イオン交換樹脂103,フラッシュ脱気部113,タンク107,紫外線酸化装置108,陰イオン交換樹脂塔109,混床型イオン交換樹脂塔110と限外ろ過膜111とから構成される。【効果】フラッシュ蒸発方式による脱気を行うことから、生成水中の溶存酸素濃度を大幅に低減でき、温度変化のみによって脱気ができることから、処理水を汚染することもなく効率的に溶存酸素の除去ができる。
請求項(抜粋):
逆浸透膜,イオン交換樹脂を含む超純水製造装置において、加熱脱気によって処理水中に含まれる溶存酸素濃度を低減することを特徴とする超純水製造方法。
IPC (4件):
C02F 1/20 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44

前のページに戻る