特許

J-GLOBAL ID：200903072056545642

多重電子ビーム照射装置および照射方法

発明者： 清水 啓三 ,  伊藤 順司 ,  金丸 正剛
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院電子技術総合研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-354236
公開番号（公開出願番号）：特開平7-192682
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【目的】 パターンの微細化による処理速度の低下を改善し、微細で複雑なパターンを効率よく形成することを可能とする。【構成】 電界放出型のエミッタ9を用いた複数の微小電子銃20を同一の基板1上に集積化して形成し、電子ビーム12の放出を個々の微小電子銃20もしくはそのブロック毎に制限して、試料面上に線状パターン30を分割して並列的に形成する構成を特徴とする。

請求項（抜粋）：

同一の基板上に電界放出型のエミッタと電子ビーム引き出し電極とからなる複数の微小電子銃が集積化して形成された集積微小電子銃と、電子ビームの放出を前記個々の微小電子銃もしくは特定のブロック毎に制御する制御手段とを備えたことを特徴とする多重電子ビーム照射装置。

IPC (4件)：

H01J 37/305 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭57-187849
  
• 特開昭57-196461
  
• 特開昭59-105252