光記録媒体及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池浦敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-308508
公開番号（公開出願番号）：特開平9-123604
出願日： 1995年11月02日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】信号特性に優れ、再生エラーが発生しにくいフタロシアニン化合物を光吸収層に用いた高耐光性光記録媒体並びにその製造方法を提供する。【解決手段】光吸収層がフタロシアニン環のα位にチオフェニル系基及びチオアルキル又はアルコキシ基を有する特定の金属フタロシアニン系化合物(1)と、置換又は環状化されていてもよいアミノ化合物、イミノ化合物及びアゾ化合物から選ばれた窒素含有化合物(2)との配位結合体を、主成分としてなる光記録媒体、並びに基体上に光吸収層を塗布成膜手段により形成させ、且つその上に光反射層を真空成膜手段により形成させるその製造方法。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくとも光吸収層を設けてなる光記録媒体において、該光吸収層が下記一般式(I)で表わされる金属フタロシアニン系化合物(1)と、置換又は環状化されていてもよいアミノ化合物、イミノ化合物及びアゾ化合物から選ばれた窒素含有化合物(2)との配位結合体を、主成分として構成されていることを特徴とする光記録媒体。【化1】(式中、M及びA1〜A8は、それぞれ以下のものを表わす。M:Mn2+、Fe2+、Co2+、Zn2+及びCd2+から選ばれた少なくとも一つの金属イオン。A1とA2、A3とA4、A5とA6及びA7とA8:それぞれのどちらか一方は-QR1又は下記一般式(II)で表わされるチオフェニル系基、他方は水素原子。但し、A1〜A8のうち少なくとも一つは-QR1及び下記一般式(II)で表わされるチオフェニル系基である。Q:O又はS原子。一般式(II):【化2】R1:C数4〜10の直鎖、分岐又は環状のアルキル基。R2〜R6:それぞれ独立に水素原子、C数1〜10の直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基又はC数1〜3のアルコキシ基。)

IPC (4件)：

B41M 5/26 , C09B 47/18 , C09B 47/20 , G11B 7/24 516

FI (4件)：

B41M 5/26 Y , C09B 47/18 , C09B 47/20 , G11B 7/24 516

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開昭59-067093
特開平4-131280
光記録媒体および光記録媒体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-200011 出願人：株式会社リコー

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