特許

J-GLOBAL ID：200903072114047364

ガスハイドレート製造方法および製造装置

発明者： 井田 博之 ,  幸田 和郎
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-162951
公開番号（公開出願番号）：特開2002-356686
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 水中へのガス拡散を効果的に行うことにより効率よくガスハイドレートを製造するガスハイドレートの製造方法および装置を得る。【解決手段】 原料水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、原料水中に原料ガスを混入させて微細気泡を生成する微細気泡生成工程と、微細気泡が生成された原料水を原料水が貯留された貯留槽に供給して原料ガスの原料水への溶解を促進させる溶解促進工程と、溶解促進された原料水を所定の圧力、温度で反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程とを備えた。

請求項（抜粋）：

原料水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、原料水中に原料ガスを混入させて微細気泡を生成する微細気泡生成工程と、微細気泡が生成された原料水を原料水が貯留された貯留槽に供給して原料ガスの原料水への溶解を促進させる溶解促進工程と、溶解促進された原料水を所定の圧力、温度で反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程とを備えたことを特徴とするガスハイドレート製造方法。

IPC (6件)：

C10L 3/06 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

FI (6件)：

C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/00 A

Fターム (9件)：

4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AD40 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD10 ,  4H006BD21 ,  4H006BD81 ,  4H006BE60