特許

J-GLOBAL ID：200903072118340473

露光装置

発明者： 野川 秀樹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-349778
公開番号（公開出願番号）：特開2002-158154
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】 露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。【解決手段】 本発明の露光装置は、基板を保持するチャックと、該チャックを介して該基板を位置決めするステージと、該ステージ近傍の露光光路を不活性ガスでパージする機構と、該ステージ上に設けられ、該基板の表面とほぼ一致する表面を形成する天板とを備え、該基板側面と該天板との間の隙間を設け、該隙間の深さは、該隙間の幅と同じか該隙間の幅より大きいことを特徴とする。これにより、隙間に存在する酸素、水分等を十分にパージすることができ、露光光路中に存在する酸素の除去を厳密に行い、安定した露光を行う露光装置を提供することができる。

請求項（抜粋）：

基板を保持するチャックと、該チャックを介して該基板を位置決めするステージと、該ステージ近傍の露光光路を不活性ガスでパージする機構と、該ステージ上に設けられ、該基板の表面とほぼ一致する表面を形成する天板とを備え、該基板側面と該天板との間の隙間を設け、該隙間の深さは、該隙間の幅と同じか該隙間の幅より大きいことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 515 G

Fターム (11件)：

2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046DA07 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03