特許

J-GLOBAL ID：200903072118420388

露光用マスクとそのパターン評価方法及び評価装置

発明者： 吉武 秀介
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-202998
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052551
出願日： 1997年07月29日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 露光用マスクに形成されたパターンの欠陥検査に際して、パターン面に異物が付着することを防ぎ、高精度な評価を再現性良く行う。【解決手段】 石英からなる透明基板11上にクロムからなる遮光膜12のパターンを形成した露光用マスク10のパターンを光学的に測定評価するパターン評価方法において、透明基板11及び遮光膜12上の全面にパターン測定用の光に対して透明な導電性薄膜層13を設け、該導電性薄膜層13を接地させてから測定評価を行う。

請求項（抜粋）：

非導電性の透明基板上に遮光膜のパターンを形成した露光用マスクであって、前記透明基板及び遮光膜上にパターン測定用の光及び露光光に対して透明な導電性薄膜層を設けてなることを特徴とする露光用マスク。

IPC (4件)：

G03F 1/14 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/14 G ,  G01N 21/88 E ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 502 P