特許
J-GLOBAL ID：200903072119694015
アライメント方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-264657
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120304
出願日： 1992年10月02日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 装置座標系での座標の測定精度を向上させることなく、測定対象パターンのサーチエリアを縮小してサーチ時間を短縮する。【構成】 アライメントマークAM1,AM2及び測定マークP1〜P5のウエハ3上の試料座標系(X,Y)での座標が予め求められている。測定マークP1〜P5に対する計測の順番をアライメントマーク及び既に計測された測定マークに最も近い順に設定し、アライメントマーク及び既にサーチされた測定マークの装置座標系(x,y)で測定された座標に基づいて試料座標系から装置座標系への座標変換式を計算し、この座標変換式により得られた装置座標系の座標を囲む領域に各測定パターン毎にサーチエリアを設定する。
請求項（抜粋）：
2次元の第1の座標系上の座標で各位置が表される面上で、第2の座標系が定められると共に複数のアライメントマーク及び複数の測定対象パターンが前記第2の座標系に基づいて形成された試料の前記測定対象パターンのサーチを行う方法において、前記複数のアライメントマークの前記第1の座標系上で測定された座標より、前記試料上に定めた前記第2の座標系から前記第1の座標系への座標変換式を求める第1工程と、該座標変換式に基づいて前記複数の測定対象パターンの内の前記複数のアライメントマークに最も近い測定対象パターンの前記第1の座標系上での座標を算出する第2工程と、該算出された座標を含む所定範囲のサーチエリアで前記測定対象パターンのサーチを行うと共に、該サーチにより得られた前記測定対象パターンの前記第1の座標系上での座標を求める第3工程と、前記複数の測定対象パターン中で既にサーチにより得られた測定対象パターン及び前記複数のアライメントマークの前記第1の座標系上での座標より、前記試料上の第2の座標系から前記第1の座標系への座標変換式を求める第4工程と、該第4工程で得られた座標変換式に基づいて、前記複数の測定対象パターンの内の前記複数のアライメントマーク及び前記既にサーチにより得られた測定対象パターンに最も近い測定対象パターンの前記第1の座標系上での座標を算出する第5工程と、該算出された座標を含む所定範囲のサーチエリアで前記測定対象パターンのサーチを行う第6工程と、を有する事を特徴とするアライメント方法。
IPC (6件)：
H01L 21/66
, G01B 11/00
, G01B 21/00
, G06F 15/64 325
, H01L 21/027
, H01L 21/68
