特許

J-GLOBAL ID：200903072120670324

スチレン系重合体の製造方法

発明者： 武内 瑞智 ,  鞆津 典夫
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-227165
公開番号（公開出願番号）：特開平7-082310
出願日： 1993年09月13日
公開日（公表日）： 1995年03月28日
要約：

【要約】【目的】 所望の分子量をもつ高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を、高い触媒効率で製造する方法を提供すること。【構成】 触媒として、(A)π結合した配位子を1個及びσ結合した配位子として少なくとも1個のメチル基を有する遷移金属化合物及び(B)非配位性アニオンとカチオンからなるイオン性化合物,アルミノキサン又は有機硼素化合物を用いてスチレン系重合体を製造するにあたり、該(A)成分においてπ結合した配位子を有する遷移金属化合物を用いて重合して得たスチレン系重合体の重量平均分子量Mwと用いた遷移金属化合物のメチル基の13C-NMR又は 1H-NMRスペクトルのケミカルシフトSとのプロットを2点以上とり、相関式を求め、この相関式から所望の重量平均分子量を与えるケミカルシフトを求め、そのケミカルシフト値を有する遷移金属化合物を該(A)成分として適宜選択することを特徴とする所望の重量平均分子量を持つスチレン系重合体の製造方法。

請求項（抜粋）：

触媒として、(A)π結合した配位子を1個及びσ結合した配位子として少なくとも1個のメチル基を有する遷移金属化合物及び(B)非配位性アニオンとカチオンからなるイオン性化合物,アルミノキサン又は有機硼素化合物を用いて、高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を製造するにあたり、該(A)成分においてπ結合したある配位子を有する遷移金属化合物を用いて重合して得たスチレン系重合体の重量平均分子量Mw1 と用いた遷移金属化合物のメチル基の同位体炭素核磁気共鳴(13C-NMR)スペクトル又はプロトン核磁気共鳴( 1H-NMR)スペクトルのケミカルシフトS1 とのプロット及び該(A)成分においてπ結合した別の配位子を有する遷移金属化合物を用いて重合して得たスチレン系重合体の重量平均分子量Mw2 と用いた遷移金属化合物のメチル基の13C-NMR又は 1H-NMRスペクトルのケミカルシフトS2 とのプロットから、得られるスチレン系重合体の重量平均分子量Mwと用いた遷移金属化合物のメチル基の13C-NMR又は 1H-NMRスペクトルのケミカルシフトSとの相関式を求め、次いで、この相関式から所望の重量平均分子量Mw3 を与えるケミカルシフトS3 を求め、そのケミカルシフト値を有する遷移金属化合物を該(A)成分として適宜選択することを特徴とする所望の重量平均分子量を持つスチレン系重合体の製造方法。

IPC (2件)：

C08F 4/642 MFG ,  C08F 12/04 MJT

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-211410
  
• 特開平4-300904
  
• 特開平4-298510