特許
J-GLOBAL ID：200903072123352676
ECR型プラズマ発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-329347
公開番号（公開出願番号）：特開平6-310494
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】プラズマの高密度化並びに低不純物化が可能でありながら、均一で大口径のプラズマを発生させることができ、かつ装置全体の大型化も防止できる【構成】上下に離間した2枚の金属板4,5をこれらの間にマイクロ波の導波路を形成するように配設し、上方の金属板5の上にこれに沿って複数の永久磁石6,7を近接するもの相互が極性が反転するようにして配設することによりECR領域並びに曲がったミラー磁界を下方の金属板4の下側に形成し、この金属板4の前記永久磁石の磁極の真下にスリット10を形成して導波路を通るマイクロ波をこれらスリツよりECR領域に放射させてプラズマの発生に寄与させ、上記の曲がったミラー磁界に捕捉された荷電粒子のドリフト運動を利用してプラズマを生成する。
請求項（抜粋）：
2枚の金属板をこれらの間にマイクロ波の導波路を形成するように配設し、一方の金属板の上にこれに沿って複数の永久磁石を近接するもの相互が極性が反転するようにして配設することによりECR領域並びに曲がったミラー磁界を他方の金属板の下側に形成し、この他方の金属板の前記永久磁石の磁極の真下に開口を形成して導波路を通るマイクロ波をこれら開口よりECR領域に放射させてプラズマの発生に寄与させ、上記の曲がったミラー磁界に捕捉された荷電粒子のドリフト運動を利用して高密度プラズマを生成することを特徴とするECR型プラズマ発生装置。
IPC (5件)：
H01L 21/31
, C23C 14/35
, H01L 21/205
, H01L 21/302
, H05H 1/46
