特許

J-GLOBAL ID：200903072131868177

投影露光装置、投影露光方法および半導体の製造方法

発明者： 大久保 昌視 ,  加藤 日出夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-214303
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031467
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】 X線等の短波長域の光線、エネルギー線の投影露光光の計測が可能な投影露光装置を提供する。【解決手段】 エネルギー線3を投影してパターンを焼きつける為の投影露光装置に於て、エネルギー線3が投影される露光ステージ4の表面の一部に設けられたピンホール5と、該ピンホール5を通して通過したエネルギー線3’を長波長の蛍光光線8に変換する蛍光体6と、変換された蛍光光線8を測光する検知器9を具備する投影露光装置。

請求項（抜粋）：

エネルギー線を投影してパターンを焼きつける為の投影露光装置に於て、エネルギー線が投影される露光ステージの表面の一部に設けられたピンホールと、該ピンホールを通して通過したエネルギー線を長波長の蛍光光線に変換する蛍光体と、変換された蛍光光線を測光する検知器を具備することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01J 1/58 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G01J 1/58 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 531 E

Fターム (16件)：

2G065AA07 ,  2G065AB04 ,  2G065AB05 ,  2G065AB09 ,  2G065AB11 ,  2G065BA09 ,  2G065BA28 ,  2G065BB22 ,  2G065DA05 ,  2G065DA20 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DC11 ,  5F046DC12