特許
J-GLOBAL ID：200903072137513982
紫外光レーザーによる有機薄膜の製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩出 真一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-091947
公開番号（公開出願番号）：特開平6-280024
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：
【要約】【目的】 エキシマレーザー等の紫外光レーザーを用いて、固体の原料有機化合物から有機薄膜を製造する方法及び装置を提供する。【構成】 反応チャンバー12内に固体の原料有機化合物13をターゲットとして配置し、この反応チャンバー12内を排気して減圧状態にした後、この原料有機化合物13に紫外光レーザーを照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物13の対局に配置した基板16上に励起された有機分子を析出させる。
請求項（抜粋）：
反応チャンバー内に固体の原料有機化合物を配置し、この反応チャンバー内を排気して減圧状態にした後、この原料有機化合物に紫外光レーザーを照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物の対局に配置した基板上に励起された有機分子を析出させることを特徴とする紫外光レーザーによる有機薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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