特許
J-GLOBAL ID:200903072140774274
透明導電膜およびその製造方法、ならびに透明導電膜を用いた電磁遮蔽体およびディスプレイ装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-199280
公開番号(公開出願番号):特開2008-028164
出願日: 2006年07月21日
公開日(公表日): 2008年02月07日
要約:
【課題】低抵抗かつ高透過率であるとともに、反射が抑えられた透明導電膜を再現性良く製造できる方法を提供する。【解決手段】基材上に透明導電膜を形成する方法であって、(I)基材上に、表面が疎水性でありかつ黒色顔料を含有する層からなる網目状の疎水性領域によって、親水性領域が囲まれている網目パターンを形成する工程と、(II)前記網目パターンが形成された基材上に、有機溶剤相中に導電性粒子を含むW/O型エマルジョンからなる塗布液を塗布し、乾燥させて、前記疎水性領域に導電性粒子を付着させる工程と、(III)前記疎水性領域に付着した導電性粒子を焼結させる工程を有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材上に透明導電膜を形成する方法であって、(I)基材上に、表面が疎水性でありかつ黒色顔料を含有する層からなる網目状の疎水性領域によって、親水性領域が囲まれている網目パターン形成する工程と、(II)前記網目パターンが形成された基材上に、有機溶剤相中に導電性粒子を含むW/O型エマルジョンからなる塗布液を塗布し、乾燥させて、前記疎水性領域に導電性粒子を付着させる工程と、(III)前記疎水性領域に付着した導電性粒子を焼結させる工程を有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
IPC (5件):
H05K 9/00
, H01B 13/00
, H01B 5/14
, G09F 9/00
, B05D 5/12
FI (6件):
H05K9/00 V
, H01B13/00 503B
, H01B5/14 A
, G09F9/00 309A
, G09F9/00 313
, B05D5/12 A
Fターム (57件):
4D075BB24Y
, 4D075BB29Z
, 4D075CA13
, 4D075CA22
, 4D075CA25
, 4D075CA36
, 4D075CA37
, 4D075CB06
, 4D075CB38
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB33
, 4D075DB36
, 4D075DB43
, 4D075DB48
, 4D075DB55
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075EA06
, 4D075EA13
, 4D075EB07
, 4D075EB14
, 4D075EB19
, 4D075EB22
, 4D075EB35
, 4D075EB43
, 4D075EC10
, 4D075EC11
, 4D075EC24
, 4D075EC30
, 4D075EC33
, 4D075EC35
, 4D075EC51
, 4D075EC52
, 4D075EC54
, 5E321AA04
, 5E321AA23
, 5E321BB23
, 5E321BB32
, 5E321BB41
, 5E321BB44
, 5E321CC16
, 5E321GG05
, 5E321GH01
, 5G307FB02
, 5G307FC08
, 5G307FC09
, 5G323BA01
, 5G323BB01
, 5G323BC01
, 5G435AA01
, 5G435AA17
, 5G435BB06
, 5G435GG33
, 5G435KK07
引用特許:
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