特許
J-GLOBAL ID：200903072168265740
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 明彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006151
公開番号（公開出願番号）：特開2000-207709
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 インダクティブヘッドを備える薄膜磁気ヘッドの製造において、トラック幅の微細化に対応して上部磁性膜先端の上ポールを高い寸法精度で形成し、より一層の狭トラック化による高記録密度化を実現する。【解決手段】 下部磁性膜3、磁気ギャップ膜7、導体コイル11及び有機絶縁層8、9を積層しかつめっき用下地膜12を被着した基板1の上にフォトレジストを塗布し、従来のフォトリソグラフィ技術によりパターニングして、上ポールのトラック幅方向の一方の端部を画定する垂直壁15を有するレジストフレーム16を形成する。磁性材料をスパッタリングすることにより、レジストフレームの垂直壁に被膜18を略一定の膜厚に形成する。イオンミリングにより余分な平面部分の被膜17a、bを除去し、かつ被膜18を所定のトラック幅に調整した後、導体コイル及び絶縁層の上に上部磁性膜のヨーク部分を電気めっきにより、上ポール部分20と一体に形成する。
請求項（抜粋）：
基板の上に下部磁性膜、磁気ギャップ膜、導体コイル及び絶縁層を積層し、前記磁気ギャップ膜の上にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストをパターニングして、上部磁性膜先端の上ポールのトラック幅方向の一方の端部を画定する垂直壁を有するレジストフレームを形成し、前記レジストフレームの前記垂直壁に磁性材料を成膜して前記上部磁性膜の上ポール部分を形成し、前記導体コイル及び絶縁層の上に前記上部磁性膜のヨーク部分を、前記上ポール部分と一体に形成する過程からなることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 C
, G11B 5/31 K
, G11B 5/39
5D033BA08
, 5D033BA13
, 5D033BB43
, 5D033DA03
, 5D033DA04
, 5D033DA08
, 5D034BA02
, 5D034BB08
, 5D034BB12
, 5D034DA07
