基板処理装置および基板処理装置用の流体供給装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-137219
公開番号（公開出願番号）：特開平10-332447
出願日： 1997年05月27日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：

【要約】【課題】流体の連続的な流量値を検出する機能を有する基板処理装置および基板処理装置用の流体供給装置を提供することである。【解決手段】基板処理装置100の処理液供給系20に流体検出装置30を設ける。流体検出装置30は光源31、レンズ32、テーパ管型流量計33およびラインセンサ35を有する。光源31からの光はレンズ32により平行光に変換され、流量計33のテーパ管33aに照射される。テーパ管33aからの透過光がラインセンサ35により受光される。データ処理部36はラインセンサ35の出力信号を明部および暗部を表す2値信号に変換する。フロート位置検出器37は明部および暗部の領域の長さに基づいて流量計33のフロート33bの位置を検出する。流量値変換器38はフロート33bの位置を流量値に変換する。流量値積分器45は流量値を時間積分することにより積算流量を算出する。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う処理部と、前記処理部に流体を供給する流体供給系と、前記流体供給系における前記流体の連続的な流量値を検出し、検出した流量値を示す信号を出力する流量検出手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

G01F 1/22 , H01L 21/66

FI (2件)：

G01F 1/22 A , H01L 21/66 Z

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-198717
特開平4-198717
特公平1-026488

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