特許
J-GLOBAL ID：200903072186461785
電子ビーム露光装置及び描画パターンを検査する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-236657
公開番号（公開出願番号）：特開平5-041348
出願日： 1991年09月17日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板上に、半導体パターンと、電子ビームにより描画する電子ビーム露光装置、及び描画されるパターンを検査する検査方法に関し、電子ビーム成形に使用するブロックマスク上の開口パターンを、ブロックマスクを取外すことなく検査できる電子ビーム露光装置を目的とする。【構成】 電子ビーム源と、光軸上に設けられ、電子ビームを通過させる開口パターンを有するビーム成形手段と、電子ビームを対象軸上に収束させる収束手段と、光軸上、ビーム成形手段と対象物の間に設けられ、電子ビームを通過させる孔を有するスクリーンと、収束手段を制御して、電子ビームが通過したビーム成形手段の開口部の像を、スクリーン上に投影する制御手段と、スクリーン上の像を検出する検出手段とを備え構成する。
請求項（抜粋）：
電子ビームを発生させ、これを光軸に沿って、対象物へ出射させる電子ビーム源と;光軸上に設けられ、電子ビームを通過させる開口パターンを少なくとも一つ有し、電子ビームの断面を所望の形状に成形するビーム成形手段と;光軸に沿って、ビーム成形手段と対象物との間に設けられ、ビーム成形手段により成形された電子ビームを対象物上に収束させ、電子ビームが通過したビーム成形手段上の開口部の像を対象物上に投影する収束手段と;光軸上に、ビーム成形手段と対象物との間で、電子ビームが光軸から外れた場合に電子ビームを遮断するように設けられ、光軸に対応して電子ビームを通過させる貫通孔を設けられた、スクリーンと;収束手段を制御して、ビーム成形手段上の開口部のパターンを検査する際に、電子ビームが通過したビーム成形手段の開口部の像を、該スクリーン上面に投影する制御手段と;スクリーン上に投影された前記開口部の像を検出する検出手段とを備え、対象物上に描画されるパターンを検査することのできる電子ビーム露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 B
, H01L 21/30 341 J
